Saieh, DanielaNakouzi M., JorgeFernández-Prada C., DanielaFacultad de Odontología2019-09-252019-09-252010http://repositorio.unab.cl/xmlui/handle/ria/10186Tesis (Cirujano Dentista, Especialización en Clínica Integral del Adulto)Los cementos resinosos duales son agentes de cementación lanzados en el mercado con el fin de unir las características favorables de los cementos resinosos fotoactivados y de los autopolimerizados. Actualmente, son utilizados en situaciones donde existe la disminución del paso de luz debido a la distancia de la fuente activadora al agente cementante. Esta investigación fue realizada con la finalidad de estudiar la resistencia traccional de un cemento de resina auto-adhesivo auto-grabante de polimerización dual fotoindependiente (RelyX™ U100 3M®) cuando es activado por luz y cuando polimeriza en ausencia de luz. Se utilizaron 30 piezas dentarias humanas (terceros molares) recientemente extraídas y sanas, las cuales fueron separadas en 2 grupos de 15 muestras cada uno. Las muestras de ambos grupos fueron cementados con RelyX™ U100 3M ®. La polimerización del grupo 1 fue activada con luz mientras que la del grupo 2 fue en ausencia de luz. Después de 10 horas de realizada la activación, ambos grupos fueron sometidos a la prueba de tracción en una maquina de ensayo universal lnstron. Los resultados obtenidos mostraron que la resistencia a la tracción de cilindros de resina cementados a la superficie dentinaria del diente con RelyX™ U100 3M®, es 1,7 veces superior cuando dicho cemento es activado por luz en comparación a cuando polimeriza en ausencia de luz, probablemente debido a que la polimerización sólo por activación química no es suficiente para alcanzar la máxima conversión del cemento a las 10 horas. No se recomienda el uso del cemento RelyX™ U100 3M® en situaciones en las que no se pueda asegurar una adecuada activación por luz de dicho cemento, ya que la polimerización del cemento RelyX™ U100 3M ® después de 10 horas en ausencia de luz es incompleta e insuficiente para otorgar adecuados valores de resistencia traccional.esMateriales DentalesChileCemento (Odontología)Efecto del método de polimerización (fotocurado o autocurado) en la fuerza de adhesión de un cemento autoadhesivo autograbante frente a fuerzas traccionalesTesis